半导体、平面显示器、太阳能、发光二极管等产业制程所需之高纯度化学品，包括清洗段氨水、硝酸、硫酸、双氧水、盐酸；蚀刻段铝蚀刻液、ITO蚀刻液、BOE蚀刻液、POLY蚀刻液、Cr蚀刻液等。